EIS交流阻抗用于材料腐蝕機理研究
線性掃描伏安法通常用來研究腐蝕過程的快慢，不能研究腐蝕的機理。要想研究腐蝕的機理，就必須弄清腐蝕的每一步過程。交流阻抗采用小振幅的正弦波擾動信號，在不破壞涂層的條件下可以用來研究腐蝕的動力學(xué)過程，因此在一個反應(yīng)中可以分析不同的腐蝕步驟，分別得到涂層電容、微孔電阻以及涂層下基底腐蝕反應(yīng)電阻、雙電層電容等與涂層性能及涂層破壞過程有關(guān)的信息。美國Pine公司的WaveDriver 100電位儀具備交流阻抗EIS功能，可以用于腐蝕動力學(xué)與機理研究。
R1表示溶液的電阻、Q1表示外部涂層的電容、R2表示涂層表面微孔的電阻、Q2表示工作電極與電解液之間的雙電層電容、R3為電極表面的多層復(fù)合膜的電阻; R3值的大小定量反映了膜層的耐腐蝕性能，R3值越大，防腐效果越好。美國PINE公司新一代WaveDriver100電化學(xué)工作站/恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計可用于兩電極、三電極模式，具有交流阻抗功能（EIS），可以廣泛地應(yīng)用于燃料電池、鋰電池、太陽能電池、隔膜、超級電容器、傳感器、涂層、緩蝕劑、物理化學(xué)等研究領(lǐng)域。
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